英伟达GB300冷板技术的综合分析,结合架构设计、材料创新、性能突破及行业影响展开论述
一、冷板架构设计革新
模块化插槽设计
可拆卸处理器模组:GB300将CPU、GPU、HBM3内存集成于插槽式模组,冷板直接嵌入底座,通过液态金属(镓基合金,导热系数 73 W/m·K)填充芯片与冷板间微缝隙,热阻降至 0.02 cm²·K/W(硅脂的1/10),大幅提升导热效率。
防泄漏机制:双密封圈(氟橡胶)+电磁锁扣设计,防止液态金属氧化泄漏;冷板表面镀镍抵御腐蚀。
独立冷板取代共享方案
单芯片独立冷板:GB300摒弃GB200的大面积共享冷板,为每个GPU芯片配备独立“一进一出”冷板,消除局部热点,适配更高算力密度。
微通道优化:冷板内嵌 <0.3mm微通道,水流速度 2-4m/s,湍流增强换热;采用3D打印钛合金材质,耐压≥10bar,支持高流量需求。
二、材料与制造工艺突破
液态金属界面技术(LMI)
材料特性:镓基合金(无汞)熔点15.5°C,流动性为硅脂的10倍,填充微缝隙能力显著提升,导热率高达73 W/m·K。
长期稳定性:每两年需维护更换,防止氧化导致的导热衰减;冷板镀镍工艺避免液态金属侵蚀铜/铝基材。
冷板制造工艺
3D打印钛合金:一体成型复杂微通道结构,精度±50μm,较传统钎焊工艺减少热阻界面。
成本控制:铜基冷板成本$50-100/块,钛合金方案虽贵但耐压性更优,适配1400W高功耗场景。
三、性能提升与系统优化
散热效率飞跃
系统级协同设计
热-电协同:匹配800V高压直流电源,磁悬浮泵功耗降30%,寿命>10万小时;输出60°C热水供园区供暖,PUE降至 1.05。
与Blackwell架构耦合:台积电CoWoS-L封装缩短热传递路径;供电模块(VRM)嵌入冷板底部,减少独立散热组件。
四、供应链生态变化
快接头(UQD)增量与小型化
数量激增:NVL72系统中,单个computetray快接头从GB200的6对增至14对(6芯片×独立冷板+分流器接口),系统总量达252对(较GB200翻倍)。
新型号NVUQD03:尺寸缩小至1/3,单价从70−80降至40-50;Cooler Master主导量产,AVC/立敏达处于验证阶段。
国内企业突破点
冷板与管路:川环科技PTFE耐腐蚀管路通过英伟达认证;英维克全链条液冷方案切入二级供应链。
液态金属:兆科电子供应高纯度(≥99.99%)镓基合金,替代德国AMTEC。
五、技术挑战与未来演进
当前瓶颈
维护成本:液态金属每2年需更换,增加运维复杂度;小型化快接头(NVUQD03)密封工艺要求极高,漏液风险未完全消除。
基建依赖:需匹配800V HVDC电源和液冷管道,旧数据中心改造成本高昂。
未来方向
2025-2026年:量产GB300冷板系统,液冷渗透率目标25%;推进两相浸没冷却,散热密度瞄准100W/cm²。
光模块液冷延伸:Switchtray光模块或采用铜管焊接替代快接头,进一步推高散热密度。
结论:冷板技术的范式重构
英伟达GB300通过 “模块化插槽+液态金属+独立微通道冷板” 三重创新,实现三大跃迁:
性能极限突破:支持1400W超高频功耗,散热密度逼近物理极限,PUE压至近1.0水平;
产业链洗牌:推动快接头小型化(Cooler Master主导)与液态金属国产化(兆科电子);
生态壁垒:维护成本与基建依赖仍是普及瓶颈,但技术领先性已确立液冷3.0时代标杆地位。
行业影响:GB300不仅解决散热问题,更重构服务器架构——从“散热适配硬件”转向 “硬件为液冷原生设计”,为AI算力爆发奠定物理基础。
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