剥离抗蚀液市场概述
LOR（剥离抗蚀液）是一种用于微加工工艺的光刻胶。光刻胶是一种感光材料，用于在微电子和微机电系统 (MEMS) 制造过程中将图案转移到基板上。LOR 光刻胶通常用于剥离工艺，这是一种图案转移技术。在此工艺中，首先将一层 LOR 光刻胶涂覆到基板上。然后，光刻胶通过图案化的掩模版曝光，使其选择性交联。显影后，去除光刻胶的曝光区域，留下图案层。剩余的图案化 LOR 光刻胶可作为后续工艺步骤（例如蚀刻或材料沉积）的掩模。完成所需的工艺步骤后，可以使用溶剂轻松剥离 LOR 光刻胶，留下图案化的基板。
据QYResearch调研团队最新报告“全球剥离抗蚀液市场报告2025-2031”显示，预计2031年全球剥离抗蚀液市场规模将达到5.62亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为8.6%（2026-2031）。
图00001. 剥离抗蚀液，全球市场总体规模
来源：QYResearch
图00002. 全球剥离抗蚀液市场前10强生产商排名及市场占有率（基于2024年调研数据；目前最新数据以本公司最新调研数据为准）
来源：QYResearch。行业处于不断变动之中，最新数据请联系QYResearch咨询。
根据QYResearch头部企业研究中心调研，全球范围内剥离抗蚀液生产商主要包括Merck KGaA、Nagase ChemteX Corporation、Tokyo Ohka Kogyo、Kayaku Advanced Materials、JSR Micro NV等。2024年，全球前五大厂商占有大约63.0%的市场份额。
